聚光科技(杭州)股份有限公司生產(chǎn)的E5000全譜直讀電弧發(fā)射光譜儀是國(guó)內(nèi)首臺(tái)非金屬粉末元素分析的臺(tái)式全譜直讀發(fā)射光譜儀,其將電弧激發(fā)光源與Paschen-Runge型全譜CCD 光譜儀相結(jié)合,通過(guò)激光定位與程控電極,自動(dòng)調(diào)整電極位置,實(shí)現(xiàn)激發(fā)間距的精確控制,利用高陣列CCD 數(shù)采獲得了激發(fā)樣品的全譜信息,通過(guò)實(shí)時(shí)扣除背景與干擾校正,直接獲得分析結(jié)果。與傳統(tǒng)攝譜儀相比,儀器操作簡(jiǎn)單,自動(dòng)化程度高,譜線(xiàn)信息豐富,測(cè)定結(jié)果快速準(zhǔn)確。
E5000采用新一代數(shù)字電弧光源,替代了傳統(tǒng)的電弧源,電極在矩室內(nèi)全自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)激發(fā),無(wú)需人工直接觀察調(diào)節(jié)間距,有效防護(hù)人眼,屏蔽了大量電磁輻射;此外,數(shù)字電源體積更小,可直接置于儀器內(nèi)部,無(wú)需加長(zhǎng)激發(fā)線(xiàn)連接外置的交流電源,有效降低大電流傳導(dǎo)過(guò)程中產(chǎn)生的輻射。
輻射測(cè)試結(jié)果顯示,正常工作時(shí),若電弧光源無(wú)防護(hù)措施,電磁輻射顯著高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)限定的40dBN;如果有效屏蔽掉電源的電磁輻射,使用長(zhǎng)的激發(fā)線(xiàn)激發(fā)時(shí),高頻300MHz以上的電磁輻射稍有降低,但300MHz以下的電磁輻射仍然較大。而經(jīng)過(guò)完全防護(hù)的E5000儀器在正常工作時(shí)電磁輻射顯著降低,完全符合國(guó)標(biāo)中關(guān)于儀器設(shè)備的電磁輻射限定要求,具體結(jié)果如下圖。